氧化铟
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  • 氧化铟

产品特性

纳米级氧化铟

形貌

外观

纯度

颗粒度

比表面积

分子式

分子量

熔点

水溶性

密度

类球形

黄色

>99.99%

<100nm

4-20㎡/g

In2O3

277.634

2000 ℃

不溶

7.179 g/cm³(25℃)

备注:本产品采用气化法制造,具有高纯度,优良分散性、流动性和可成型性等特点。可向客户提供以上所有样品分析的测试方法。

产品特点

        纯度99.995%,粒度小,比表面积大,活性高 ,优良分散性、流动性和可成性等特点。无污染 (不涉及化学法生产所产生的废水,废气及固废等废料)。可根据客户需求在一定范围内调整指标。

产品用途

        1、用作光谱纯试剂和电子元件的材料等。
        2、用于金属反射镜面的保护涂层、光电显示半导体薄膜,也用于制造铟盐、玻璃。
        电阻式触摸屏中经常使用的原材料,主要用于荧光屏、玻璃、陶瓷、化学试剂等。另外,广泛应用于有色玻璃、陶瓷、碱锰电池代汞缓蚀刘、化学试剂等传统领域。近年来大量应用于光电行业等高新技术领域和军事领域,特别适用于加工为铟锡氧化物(ITO)靶材,制造透明电极和透明热反射体材料,用于生产平面液晶显示器和除雾冰器。

 

关键词:

氧化铟

氧化铟
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氧化铟

采用物理气相法生产,纯度高、粒度小且分布均匀、粉体烧结活性高 。纯度、比表面积可根据客户需求在一定范围内调整指标。

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